ScIPRA – SCIENCES ET INGENIERIE DES PLASMAS REACTIFS ET DES ARCS

PRÉSENTATION

L’équipe ScIPRA Ă©tudie la physique des plasmas rĂ©actifs hors Ă©quilibre (de quelques mTorr Ă  la pression atmosphĂ©rique) et des arcs Ă©lectriques, dĂ©veloppe et optimise des procĂ©dĂ©s mettant en Ɠuvre ces plasmas et les applique Ă  la formation de matĂ©riaux originaux.
L’équipe ScIPRA a la particularitĂ© de couvrir des compĂ©tences aussi complĂ©mentaires que la physique des plasmas, le gĂ©nie des procĂ©dĂ©s, le gĂ©nie Ă©lectrique et les matĂ©riaux. L’Ă©quipe traite ainsi de sujets aussi diversifiĂ©s que la synthĂšse de nanomatĂ©riaux et le dĂ©pĂŽt de couches minces, la physique des dĂ©charges ou la coupure Ă©lectrique que ce soit pour des questions fondamentales ou en rĂ©ponse Ă  des besoins industriels ou sociĂ©taux.
Les axes scientifiques concernent l’étude (1) des dĂ©charges Ă©lectriques, (2) des procĂ©dĂ©s plasma et (3) des matĂ©riaux allant des nanoparticules aux couches minces nanostructurĂ©es.

THÉMATIQUES DE RECHERCHE :

- DĂ©charges Ă©lectriques.

L’étude de la physique des dĂ©charges hors ou proche de l’équilibre thermodynamique est le premier pilier des sujets que nous dĂ©veloppons. Ces Ă©tudes sont menĂ©es expĂ©rimentalement (lien vers les rĂ©acteurs) en couplant un large panel de diagnostics (lien vers les Ă©quipements) Ă  diffĂ©rents outils numĂ©riques (lien vers les outils numĂ©riques). Elles sont structurĂ©es en 3 catĂ©gories :
‱ DĂ©charges sur une gamme de pression (0.1 Pa Ă  la pression atmosphĂ©rique) et de frĂ©quence d’excitation (alimentation continue aux microondes) Ă©tendues.
‱ DĂ©charges dans des rĂ©gimes trĂšs instationnaires (arcs Ă©lectriques, dĂ©charges partielles ou en prĂ©sence de pulse d’alimentation Ă©lectrique ou d’injection de gaz) avec de fortes disparitĂ©s de constantes de temps (frĂ©quence de collision GHz, excitation kHz-GHz, pulses Hz)
‱ DĂ©charges en dĂ©sĂ©quilibre thermodynamique, Ă  savoir avec de trĂšs forts gradients thermiques

Les sujets visĂ©s concernent, par exemple, l’étude des rĂ©gimes de fonctionnement des dĂ©charges Ă  pression atmosphĂ©rique, des dĂ©charges partielles, des arcs de dĂ©faut ou de la coupure Ă©lectrique, le dĂ©veloppement de nouvelles mĂ©thodologies de propulsion ou l’étude de dĂ©charges dans des rĂ©gimes transitoires tels que la formation d’un arc Ă©lectrique ou d’un streamer, la rĂ©ponse d’une dĂ©charge Ă  une injection pulsĂ©e de gaz, etc. avec des applications en aĂ©ronautique, spatial, gĂ©nie Ă©lectrique ou XXX. Ils alimentent aussi nos travaux sur les procĂ©dĂ©s plasma et les matĂ©riaux.

- Procédés plasma

Les plasmas gĂ©nĂ©rĂ©s dans des milieux rĂ©actifs (gaz molĂ©culaires, nanomatĂ©riaux, liquides et/ou leurs mĂ©langes) permettent d’étudier diffĂ©rents mĂ©canismes en interaction avec des parois. Par exemple, ces plasmas sont Ă©tudiĂ©s pour comprendre la formation d’arcs dans les disjoncteurs ou utilisĂ©s comme procĂ©dĂ©s de dĂ©pĂŽts, de traitement de surfaces. Ces Ă©tudes passent par l’analyse de la phase gaz/plasma en termes de composition, de cinĂ©tiques ainsi que de mesures de grandeurs Ă©lectriques ou physiques par la mise en Ɠuvre de diagnostics spĂ©cifiques (lien vers les Ă©quipements) et d’outils numĂ©riques (lien vers les outils numĂ©riques)
Ces procĂ©dĂ©s rĂ©pondent gĂ©nĂ©ralement Ă  des besoins sociaux-Ă©conomiques (traitement de surface, prĂ©vention des risques liĂ©s aux arcs Ă©lectriques, safe-by-design ou respectueux de l’homme et de l’environnement) et sont dĂ©veloppĂ©s sur des Ă©quipements de recherche ou sur des pilotes industriels (lien vers les rĂ©acteurs). Ils sont Ă©tudiĂ©s dans des domaines applicatifs variĂ©s tels que l’aĂ©ronautique, le spatial, la biotechnologie, le biomĂ©dical, l’industrie forestiĂšre, ou le dĂ©pĂŽt et la formation de matĂ©riaux.

- Matériaux

D’autres plasmas rĂ©actifs Ă©tudiĂ©s dans le groupe conduisent Ă  la formation de matĂ©riaux. Ceux-ci consistent en :
– des couches minces homogĂšnes telles que de la silice ou du diamant synthĂ©tique,
– des nanoparticules tels que des nanocarbones, des nanoparticules mĂ©talliques (argent, fer) ou d’oxydes mĂ©talliques (ZnO) ainsi que des structures plus complexes telles que des particules cƓur-coquille,
– des couches minces nanostructurĂ©es multifonctionnels.
Ces procĂ©dĂ©s sont Ă©tudiĂ©s par des mesures in-situ telles que des observations (imagerie rapide), des mesures spectroscopiques du plasma (OES, masse, FTIR). Elles consistent Ă  Ă©tudier l’interaction plasma – nanoparticules, Ă  la fois, sur le fonctionnement et le comportement de la dĂ©charge (attachement Ă©lectronique, Ă©mission secondaire) mais aussi sur les matĂ©riaux obtenus (changement de phase, composition, structure, fonctionnalitĂ©s). Elles sont gĂ©nĂ©ralement couplĂ©es Ă  des mĂ©thodes ex-situ telles que la microscopie Ă©lectronique (MEB, MET) et en champ proche (AFM), l’ellipsomĂ©trie spectroscopique, la spectroscopie IR Ă  transformĂ©e de Fourier (FTIR) et complĂ©tĂ©es par des mĂ©thodes numĂ©riques telles que des modĂšles de composition, des modĂšles collisionnels radiatifs.
Ces matĂ©riaux sont Ă©tudiĂ©s d’un point de vue purement fondamental (formation de poussiĂšres cosmiques, synthĂšse en milieu hors Ă©quilibre) ou dĂ©veloppĂ©s comme revĂȘtements appliquĂ©s pour le domaine de la santĂ©, de l’aĂ©ronautique, du spatial, etc.

Moyens techniques

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